图 1.离子注入机示例

如前所述，每个注入的离子在静止之前都会与几个目标原子碰撞。这种碰撞可能涉及目标原子的原子核或其电子之一。靶阻止离子的总功率是原子核的阻止功率和电子的阻止功率的总和。

离子注入过程中原子碰撞造成的损伤会改变靶材的电学特性。许多目标原子被置换，产生深电子和空穴陷阱，捕获移动载流子并增加电阻率。因此需要退火来修复晶格损伤并将掺杂剂原子置于替代位置，在那里它们可以再次具有电活性。